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차주홍

JUHONG, CHA

IT공과대학

반도체공학과

ORCID

연구분야

  • Plasma Processing
  • Plasma Source Engineering
  • Semiconductor Engneering
  • 반도체 공학
  • 플라즈마 공정
  • 플라즈마 장비

자료유형

발행연도

2023 ~ 2025
2023 2025

키워드

언어

전체 12건 중 1번부터 10번까지의 결과를 표시합니다.

2025
Article

Thermal effects on plasma characteristics in inductively coupled Ar/O2 discharges: a fluid simulation approach

  • 2025-10
  • Journal of Physics D: Applied Physics
  • IOP Publishing Ltd.
Article

Thermally Cross-Linkable Blended Hole Transport Layer for Solution-Processed Quantum Dot Light-Emitting Diodes

  • Kim, Dong Hyun
  • Lee, Kyung Jae
  • Hwang, Jeong Ha
  • Kwon, Haeju
  • Seo, Eunyong
  • ... Cha, Ju-Hong
  • ... Lee, Donggu
  • 외 4명
  • 2025-08
  • ACS Applied Nano Materials
  • American Chemical Society
Article

Properties of titanium thin film deposited by RF and DC magnetron sputtering at low temperatures

  • 2025-06
  • AIP Advances
  • American Institute of Physics Inc.
Article

2차원 유체 시뮬레이션 용량 결합 Ar/O₂ 방전 특성

  • 2025-03
  • 전기학회논문지
  • 대한전기학회
2024
Article

유기 단극 소자의 트랩에 의한 전기적 특성 연구

  • 이경재
  • 서은용
  • 김동현
  • 이주완
  • 민신희
  • ... 차주홍
  • ... 이동구
  • 2024-12
  • 전기전자학회논문지
  • 한국전기전자학회
2023
Article

슬랏 안테나 두께에 따른 원통형 TE11 선형 마이크로웨이브 플라즈마 특성 분석

  • 차주홍
  • 김상우
  • 정성현
  • 이호준
  • 2023-12
  • 전기학회논문지
  • 대한전기학회
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