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차주홍

JUHONG, CHA

반도체공학과

IT공과대학

연구분야

Plasma Processing,
Plasma Source Engineering,
Semiconductor Engneering,
반도체 공학,
플라즈마 공정,
플라즈마 장비

2023

2025

연도별 연구 활동 현황

자료유형

Article (9)
Funding (2)

발행연도

2023 ~ 2025

2023 2025

키워드

SILICON (40)
TRANSPORT (177)
<italic>N</italic>4,<italic>N</italic>4 '-Di(naphthalen-1-yl)-<italic>N</italic>4,<italic>N</italic>4 '-bis(4-vinylphenyl) biphenyl-4,4 '-diamin (VNPB) (1)
ARGON (6)
ATOMIC LAYER DEPOSITION (3)

언어

English (5)
Korean (4)

전체 11건 중 1번부터 10번까지의 결과를 표시합니다.

2025

Article

Low-Temperature RF Magnetron Sputtering of TiW Thin Films: Effects of the Bulk Plasma Characteristics on Film Growth

Bang, Chiyun ;
Ji, Chang Yeong ;
Cha, Ju-Hong

2025-11
Applied Sciences-basel
MDPI

Article

Thermal effects on plasma characteristics in inductively coupled Ar/O2 discharges: a fluid simulation approach

Kim, Sang-Woo ;
Cha, Ju-Hong ;
Lee, Ho-Jun

2025-10
Journal of Physics D: Applied Physics
IOP Publishing Ltd.

Article

Thermally Cross-Linkable Blended Hole Transport Layer for Solution-Processed Quantum Dot Light-Emitting Diodes

Kim, Dong Hyun ;
Lee, Kyung Jae ;
Hwang, Jeong Ha ;
Kwon, Haeju ;
Seo, Eunyong ;
... Cha, Ju-Hong ;
... Lee, Donggu ;
외 4명

2025-08
ACS Applied Nano Materials
American Chemical Society

Article

Properties of titanium thin film deposited by RF and DC magnetron sputtering at low temperatures

Bang, Chiyun ;
Cha, Ju-Hong

2025-06
AIP Advances
American Institute of Physics Inc.

Article

2차원 유체 시뮬레이션 용량 결합 Ar/O₂ 방전 특성

장민우 ;
차주홍 ;
이호준

2025-03
전기학회논문지
대한전기학회

Funding

반도체 공정개론 신규교과목 개발과 고종횡비 반도체 식각 구현을 위한 고정밀 측벽 보호 공정?장비 기술 개발 연구

차주홍

2025-01

2024

Article

유기 단극 소자의 트랩에 의한 전기적 특성 연구

이경재 ;
서은용 ;
김동현 ;
이주완 ;
민신희 ;
... 차주홍 ;
... 이동구

2024-12
전기전자학회논문지
한국전기전자학회

Article

사각 도파관 기반 마이크로웨이브 플라즈마 슬랏 안테나 구조 최적화 설계

차주홍

2024-12
전기학회논문지
대한전기학회

Funding

대기압 플라즈마 장치를 활용한 초소수성 표면처리 연구

차주홍

2024-03

2023

Article

슬랏 안테나 두께에 따른 원통형 TE11 선형 마이크로웨이브 플라즈마 특성 분석

차주홍 ;
김상우 ;
정성현 ;
이호준

2023-12
전기학회논문지
대한전기학회

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