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ZnO:Al 투명도전막의 열처리에 따른전기적 및 광학적 특성Electrical and optical properties of ZnO:Al transparent conductive films with thermal treatments
- Other Titles
- Electrical and optical properties of ZnO:Al transparent conductive films with thermal treatments
- Issue Date
- 2020
- Publisher
- 한국전기전자학회
- Keywords
- ZnO:Al films; annealing; mobility; Urbach; transmittance
- Citation
- 전기전자학회논문지, v.24, no.2, pp 435 - 440
- Pages
- 6
- Indexed
- KCI
- Journal Title
- 전기전자학회논문지
- Volume
- 24
- Number
- 2
- Start Page
- 435
- End Page
- 440
- ISSN
- 1226-7244
2288-243X
- Abstract
- 고주파 마그네트론 스퍼터링으로～500 nm 두께의 ZnO:Al막을 증착하였다. 증착된 ZnO:Al막을 100 ℃, 200 ℃, 300 ℃ 및400 ℃에서 10시간 동안 열처리하였다. ZnO:Al막의 열처리에 따른 저항률, 캐리어 농도 및 이동도 변화를 측정하였다. XRD,FESEM 결과를 통해 열처리에 따른 ZnO:Al막의 저항률 변화 원인을 조사하였다. ZnO:Al막의 광 투과율을 측정한 후 에너지밴드 갭, Urbach 에너지 및 굴절률을 도출하였다. ZnO:Al막의 전기적 특성 변화를 광특성과 연관지어 설명하였다.
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Collections - 공과대학 > 반도체공학과 > Journal Articles
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