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ZnO:Al 투명도전막의 열처리에 따른전기적 및 광학적 특성
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| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 마대영 | - |
| dc.contributor.author | 박기철 | - |
| dc.date.accessioned | 2022-12-26T13:46:23Z | - |
| dc.date.available | 2022-12-26T13:46:23Z | - |
| dc.date.issued | 2020 | - |
| dc.identifier.issn | 1226-7244 | - |
| dc.identifier.issn | 2288-243X | - |
| dc.identifier.uri | https://scholarworks.gnu.ac.kr/handle/sw.gnu/7766 | - |
| dc.description.abstract | 고주파 마그네트론 스퍼터링으로～500 nm 두께의 ZnO:Al막을 증착하였다. 증착된 ZnO:Al막을 100 ℃, 200 ℃, 300 ℃ 및400 ℃에서 10시간 동안 열처리하였다. ZnO:Al막의 열처리에 따른 저항률, 캐리어 농도 및 이동도 변화를 측정하였다. XRD,FESEM 결과를 통해 열처리에 따른 ZnO:Al막의 저항률 변화 원인을 조사하였다. ZnO:Al막의 광 투과율을 측정한 후 에너지밴드 갭, Urbach 에너지 및 굴절률을 도출하였다. ZnO:Al막의 전기적 특성 변화를 광특성과 연관지어 설명하였다. | - |
| dc.format.extent | 6 | - |
| dc.language | 한국어 | - |
| dc.language.iso | KOR | - |
| dc.publisher | 한국전기전자학회 | - |
| dc.title | ZnO:Al 투명도전막의 열처리에 따른전기적 및 광학적 특성 | - |
| dc.title.alternative | Electrical and optical properties of ZnO:Al transparent conductive films with thermal treatments | - |
| dc.type | Article | - |
| dc.publisher.location | 대한민국 | - |
| dc.identifier.doi | 10.7471/ikeee.2020.24.2.435 | - |
| dc.identifier.bibliographicCitation | 전기전자학회논문지, v.24, no.2, pp 435 - 440 | - |
| dc.citation.title | 전기전자학회논문지 | - |
| dc.citation.volume | 24 | - |
| dc.citation.number | 2 | - |
| dc.citation.startPage | 435 | - |
| dc.citation.endPage | 440 | - |
| dc.identifier.kciid | ART002604383 | - |
| dc.description.isOpenAccess | N | - |
| dc.description.journalRegisteredClass | kci | - |
| dc.subject.keywordAuthor | ZnO:Al films | - |
| dc.subject.keywordAuthor | annealing | - |
| dc.subject.keywordAuthor | mobility | - |
| dc.subject.keywordAuthor | Urbach | - |
| dc.subject.keywordAuthor | transmittance | - |
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