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Ga이 첨가된 Zn0-SnO2막의 구조적 및 전기적 특성

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dc.contributor.author박기철-
dc.contributor.author마대영-
dc.date.accessioned2022-12-27T03:34:52Z-
dc.date.available2022-12-27T03:34:52Z-
dc.date.issued2011-
dc.identifier.issn1226-7945-
dc.identifier.issn2288-3258-
dc.identifier.urihttps://scholarworks.gnu.ac.kr/handle/sw.gnu/24338-
dc.description.abstractGa이 첨가된 ZnO-SnO₂ (ZSGO) 투명막을 rf magnetron sputtering으로 제조한 후 제조된 막의 구조적 및 전기적 특성 을 조사하였다. 타겟을 제조하기 위하여, 무게비 1:1로 썩은 ZnO 및 SnO₂ 분말에다 3.0 wt%의 Ga를 첨가한 후 이것을 800℃ 에서 1시간 동안 소성시켰다. 스퍼터링 시 기판온도를 상온에서 300℃ 까지 변화시켰다. XRD와 SEM을 사용하여 막의 결정성 및 표면형상을 조사하였다. ZSGO막의 투과율을 측정하였으며, 흡수계수를 이용하여 에너지갭을 구하였다. 기판온도에 따른 저항율의 변화를 조사하였으며, Auger electron spectroscopy를 사용하여 막에 포함된 Zn, Sn, Ga 및 O의 원자비를 분석하였다. Ga을 첨가하여 증착한 ZnO-SnO₂ 막은 가시광영역 투과율 80% 이상, 저항율 106 Ωcm 이상을 나타내었다.-
dc.format.extent6-
dc.language한국어-
dc.language.isoKOR-
dc.publisher한국전기전자재료학회-
dc.titleGa이 첨가된 Zn0-SnO2막의 구조적 및 전기적 특성-
dc.title.alternativeStructural and Electrical Properties of Ga-doped ZnO-SnO2 Films-
dc.typeArticle-
dc.publisher.location대한민국-
dc.identifier.bibliographicCitation전기전자재료학회논문지, v.24, no.8, pp 641 - 646-
dc.citation.title전기전자재료학회논문지-
dc.citation.volume24-
dc.citation.number8-
dc.citation.startPage641-
dc.citation.endPage646-
dc.identifier.kciidART001575479-
dc.description.isOpenAccessN-
dc.description.journalRegisteredClasskci-
dc.subject.keywordAuthorGa-doped ZnO-SnO2 films-
dc.subject.keywordAuthorRf magnetron sputtering-
dc.subject.keywordAuthorCrystallographic properties-
dc.subject.keywordAuthorSurface morphologies-
dc.subject.keywordAuthorTransmittance-
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