Detailed Information

Cited 0 time in webofscience Cited 0 time in scopus
Metadata Downloads

PRAM을 위한 Ge-Se-Te 박막의 상변환 특성

Full metadata record
DC Field Value Language
dc.contributor.author신재호-
dc.contributor.author이현용-
dc.contributor.author김병철-
dc.contributor.author여종빈-
dc.date.accessioned2022-12-27T03:17:10Z-
dc.date.available2022-12-27T03:17:10Z-
dc.date.issued2011-
dc.identifier.issn1226-7945-
dc.identifier.issn2288-3258-
dc.identifier.urihttps://scholarworks.gnu.ac.kr/handle/sw.gnu/23930-
dc.description.abstract본 연구에서는, 나노 펄스 스캐너를 사용하여 Ge_8Se_(2+x)Te_(6-x) 박막의 비정질-결정질 상변화 속도를 평가하였다. 1–17 mW 파워(P) 범위와 10–460 ns 의 펄스폭(t) 범위에서, 10 μm 이하의 직경을 갖는 입사 레이저 빔을 입사하고 그에 대한 박막 표면으로부터의 응답 시그널을 측정하였다. 또한, 증착 직후 그리고 열처리한 박막에 대하여 광학적 흡수 특성과 에너지 갭, 결정구조, 면저항 등의 물성을 분석하였다. 실험 결과 Se 함량의 증가는 열적인 안정성 향상에 기여할 수 있음을 보여주었다.-
dc.format.extent6-
dc.language한국어-
dc.language.isoKOR-
dc.publisher한국전기전자재료학회-
dc.titlePRAM을 위한 Ge-Se-Te 박막의 상변환 특성-
dc.title.alternativePhase Change Characteristics of Ge-Se-Te Thin Film for PRAM-
dc.typeArticle-
dc.publisher.location대한민국-
dc.identifier.bibliographicCitation전기전자재료학회논문지, v.24, no.12, pp 982 - 987-
dc.citation.title전기전자재료학회논문지-
dc.citation.volume24-
dc.citation.number12-
dc.citation.startPage982-
dc.citation.endPage987-
dc.identifier.kciidART001607190-
dc.description.isOpenAccessN-
dc.description.journalRegisteredClasskci-
dc.subject.keywordAuthorGeSeTe-
dc.subject.keywordAuthorPhase change memory-
dc.subject.keywordAuthorCrystallization-
dc.subject.keywordAuthorNano-pulse scanner-
dc.subject.keywordAuthorPRAM-
Files in This Item
There are no files associated with this item.
Appears in
Collections
융합기술공과대학 > Division of Converged Electronic Engineering > Journal Articles

qrcode

Items in ScholarWorks are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

Related Researcher

Researcher Kim, Byung Cheul photo

Kim, Byung Cheul
IT공과대학 (전자공학부)
Read more

Altmetrics

Total Views & Downloads

BROWSE