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PRAM을 위한 Ge-Se-Te 박막의 상변환 특성
Phase Change Characteristics of Ge-Se-Te Thin Film for PRAM
- 신재호;
- 이현용;
- 김병철;
- 여종빈
초록
본 연구에서는, 나노 펄스 스캐너를 사용하여 Ge_8Se_(2+x)Te_(6-x) 박막의 비정질-결정질 상변화 속도를 평가하였다. 1–17 mW 파워(P) 범위와 10–460 ns 의 펄스폭(t) 범위에서, 10 μm 이하의 직경을 갖는 입사 레이저 빔을 입사하고 그에 대한 박막 표면으로부터의 응답 시그널을 측정하였다. 또한, 증착 직후 그리고 열처리한 박막에 대하여 광학적 흡수 특성과 에너지 갭, 결정구조, 면저항 등의 물성을 분석하였다. 실험 결과 Se 함량의 증가는 열적인 안정성 향상에 기여할 수 있음을 보여주었다.
키워드
GeSeTe; Phase change memory; Crystallization; Nano-pulse scanner; PRAM
- 제목
- PRAM을 위한 Ge-Se-Te 박막의 상변환 특성
- 제목 (타언어)
- Phase Change Characteristics of Ge-Se-Te Thin Film for PRAM
- 저자
- 신재호; 이현용; 김병철; 여종빈
- 발행일
- 2011
- 저널명
- 전기전자재료학회논문지
- 권
- 24
- 호
- 12
- 페이지
- 982 ~ 987
- 언어
- KOR
- 출판사
- 한국전기전자재료학회
- 발행국가
- 대한민국
- 분량
- 6 페이지
- ISSN
- E 2288-3258
P 1226-7945