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고습에서 열처리된 ITO 박막의 전기적 및 광학적 특성
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| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 마대영 | - |
| dc.contributor.author | 박기철 | - |
| dc.date.accessioned | 2022-12-26T11:46:09Z | - |
| dc.date.available | 2022-12-26T11:46:09Z | - |
| dc.date.issued | 2021 | - |
| dc.identifier.issn | 1226-7244 | - |
| dc.identifier.issn | 2288-243X | - |
| dc.identifier.uri | https://scholarworks.gnu.ac.kr/handle/sw.gnu/5451 | - |
| dc.description.abstract | 고주파 마그네트론 스퍼터링으로 증착된 ～185 nm 두께의 ITO막을 습도 100%에서 열처리하였다. 온도 200 ℃, 250 ℃,300 ℃, 350 ℃, 400 ℃ 및 450 ℃에서 각각 4시간 동안 열처리하였다. 고습 열처리에 따른 저항률, 전자농도 및 이동도 변화를 조사하였다. XRD결과로 스트레스 변화를 계산하였으며, FESEM 사진을 통해 ITO막의 표면형상을 관찰하였다. 광투과율을 측정한 후 에너지 밴드 갭을 구하였으며, Burnstein-Moss 효과와 비교 및 분석하였다. | - |
| dc.format.extent | 6 | - |
| dc.language | 한국어 | - |
| dc.language.iso | KOR | - |
| dc.publisher | 한국전기전자학회 | - |
| dc.title | 고습에서 열처리된 ITO 박막의 전기적 및 광학적 특성 | - |
| dc.title.alternative | Electrical and optical properties of ITO films annealed at high humidity | - |
| dc.type | Article | - |
| dc.publisher.location | 대한민국 | - |
| dc.identifier.doi | 10.7471/ikeee.2021.25.1.47 | - |
| dc.identifier.bibliographicCitation | 전기전자학회논문지, v.25, no.1, pp 47 - 52 | - |
| dc.citation.title | 전기전자학회논문지 | - |
| dc.citation.volume | 25 | - |
| dc.citation.number | 1 | - |
| dc.citation.startPage | 47 | - |
| dc.citation.endPage | 52 | - |
| dc.identifier.kciid | ART002703826 | - |
| dc.description.isOpenAccess | N | - |
| dc.description.journalRegisteredClass | kci | - |
| dc.subject.keywordAuthor | ITO films | - |
| dc.subject.keywordAuthor | sputtering | - |
| dc.subject.keywordAuthor | annealing | - |
| dc.subject.keywordAuthor | XRD | - |
| dc.subject.keywordAuthor | Burnstein-Moss effect | - |
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