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기판 온도에 따른 ZnO:Ga 박막의 특성

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DC Field Value Language
dc.contributor.author김정규-
dc.contributor.author박기철-
dc.date.accessioned2022-12-26T19:04:03Z-
dc.date.available2022-12-26T19:04:03Z-
dc.date.issued2017-
dc.identifier.issn1226-7945-
dc.identifier.issn2288-3258-
dc.identifier.urihttps://scholarworks.gnu.ac.kr/handle/sw.gnu/14243-
dc.description.abstract갈륨도핑을 위해 5%의 Ga2O3를 함유한 ZnO 타겟으로 유리기판 위에 RF 마그네트론 스퍼터링 법으로 갈륨이 포함된 ZnO(GZO) 박막을 증착하였다. 기판온도의 변화에 대한 GZO 박막의 구조적, 전기적 및 광학특성을 조사하였다. 기판온도가 상온에서 350°C 로 바뀌면 증착률은 감소하였다. 유리기판에 수직인 c-축의 전형적인 배열을 보였고 결정립의 크기는 300°C까지는 증가하였으나 350°C에서는 감소하였다. 300°C에서 증착된 GZO 박막의 저항율은 7 × 10-4Ωcm 이고 전송자의 밀도와 이동도에 의존함을 보였다. 두께 3000Å의 박막에서 광투과도는 기판온도와 무관하게 80% 이상이었다.-
dc.format.extent6-
dc.language한국어-
dc.language.isoKOR-
dc.publisher한국전기전자재료학회-
dc.title기판 온도에 따른 ZnO:Ga 박막의 특성-
dc.title.alternativeStudy on the Properties of ZnO:Ga Thin Films with Substrate Temperatures-
dc.typeArticle-
dc.publisher.location대한민국-
dc.identifier.doi10.4313/JKEM.2017.30.12.794-
dc.identifier.bibliographicCitation전기전자재료학회논문지, v.30, no.12, pp 794 - 799-
dc.citation.title전기전자재료학회논문지-
dc.citation.volume30-
dc.citation.number12-
dc.citation.startPage794-
dc.citation.endPage799-
dc.identifier.kciidART002287282-
dc.description.isOpenAccessN-
dc.description.journalRegisteredClasskci-
dc.subject.keywordAuthorGa doped ZnO (GZO)-
dc.subject.keywordAuthorRF magnetron sputtering method-
dc.subject.keywordAuthorSubstrate temperature-
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